« Surface Roughness and Topography of Ni / Micro-SiC Layers: Influence of Current Density on Electrodeposition Process », Ann_UGAL_MMS, vol. 38, nᵒ 4, p. 5–10, déc. 2015, Consulté le: nov. 02, 2026. Disponible sur: https://ojs.ugal.ro/index.php/mms/article/view/1284