[1]
„Studies and Research on the Production of TiO2 and TiN Thin Films by Assisted Physical Vapor Deposition Magnetron Process“, Ann_UGAL_MMS, Bd. 40, Nr. 1, S. 23–30, März 2017, Zugegriffen: Nov. 02, 2026. Verfügbar unter: https://ojs.ugal.ro/index.php/mms/article/view/1210